拓荊科技股份有限公司成立于2010年4月，是國家高新技術企業，主要從事半導體專用設備的研發、生產、銷售與技術服務。公司多次獲評中國半導體行業協會授予的“中國半導體設備五強企業”稱號。拓荊在北京、上海、海寧、青島、沈陽和美國、BVI、新加坡及日本成立子公司。

拓荊主要產品包括等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)設備、原子層沉積(ALD)設備、次常壓化學氣相沉積(SACVD)設備、高密度等離子體化學氣相沉積(HDPCVD)設備、超高深寬比溝槽填充（Flowable CVD）設備和三維集成 (W2W / D2W Hybrid Bonding) 設備以及相關量測設備等系列，擁有自主知識產權，技術指標達到國際同類產品的先進水平。產品主要應用于集成電路晶圓制造、 先進存儲和先進封裝、HBM、MEMS、Micro-LED 和 Micro-OLED 顯示等高端技術領域。

拓荊產品已進入北京、上海、武漢、合肥、天津、臺灣等20多個地區的70多條生產線，并設有技術服務中心，為客戶提供每周7天，每天24小時的技術支持。 公司已形成一支國際化的專業團隊，具備高科技研發實力及管理經驗。通過多年技術積累，公司已建立自主知識產權的核心技術群及知識產權體系，被國家知識產權局評為“國家知識產權示范企業(2022-2025)”。

拓荊總部坐落于沈陽市渾南區，擁有現代化辦公大樓及高等級潔凈廠房，總建筑面積達40,000平方米，2025年6月，投資近十億的上海二廠已正式啟用，同時投入十多億籌建沈陽二廠。公司已獲得ISO9001、ISO14001、ISO45001體系的認證。通過與全球的供應商合作，形成了穩定的供應鏈系統。

拓荊公司愿與業界伙伴建立真誠、友好、共贏的產業合作聯盟，為中國及世界半導體產業的發展做出貢獻。