崗位職責:
1.主導光學鄰近效應校正(OPC)模型與配方的開發、驗證及優化,解決先進工藝節點下的圖形失真問題。
2.分析晶圓數據,識別并解決光刻工藝中的缺陷和難點,與光刻、刻蝕等團隊協作提升整體工藝良率和效率。
3.建立、優化并標準化OPC工作流程,編寫Python或Perl腳本實現任務自動化,以提升工作效率和準確性。
4.作為技術核心,與設計、工藝、光罩廠等多部門緊密協作,并提供必要的技術支持與培訓。
任職要求:
1.本科及以上學歷,光學、物理、微電子、電子工程、化學工程或材料科學等相關專業
2.精通OPC原理與流程,熟悉基于規則的OPC和基于模型的OPC;掌握主流EDA工具,如Synopsys或Mentor的OPC工具。
3..深刻理解光刻工藝及半導體制造流程,熟悉KrF/ArF光刻機工作原理及相關量測設備。
4.具備較強的編程能力,熟悉Linux操作系統,能使用腳本語言開發自動化工具。
5.具備卓越的溝通能力、團隊合作精神、分析及解決問題能力。部分崗位要求流利的英語溝通能力。
6.5年以上半導體行業OPC或光刻技術相關經驗。